Otè: Wang Shize, Wang Shaoqing, Ran Qingxuan, elatriye.
Otè Inite: Shijiazhuang Railway University
Sous atik la: Tiyo soude
Rezistans korozyon elektwochimik nan alyaj Titàn TB5 pou perçage lwil oliv lanmè ak tiyo a optimize, yo te etidye efè solisyon konvansyonèl ak tretman chalè aje sou konpòtman korozyon elektwochimik li yo. Rezilta eksperimantal yo montre ke gwosè ble a nan alyaj Titàn TB5 ogmante piti piti ak ogmantasyon nan tanperati solisyon an. Gwosè grenn apre tretman solisyon nan 950 degre se 125 pi gwo pase sa apre tretman solisyon nan 800 degre μ m. Pi ba tanperati solisyon an, pi piti gwosè grenn lan, ak pi bon an rezistans korozyon;
Rezistans korozyon alyaj la siyifikativman amelyore apre aje, ak segondè rezistans korozyon ogmante ak ogmantasyon tanperati aje Kontni an nan faz la te ogmante an premye ak Lè sa a, diminye, ak rezistans korozyon nan alyaj la te menm jan ak sa yo ki nan faz segondè. Li se dirèkteman pwopòsyonèl ak kontni faz la.
Rezilta yo montre ke pi bon pwosesis tretman chalè ak rezistans elektwochimik korozyon se 800 degre solisyon solid plis 500 degre aje, ak pousantaj korozyon an se 1.44 × 10-3 mm / a.
Mo kle: TB5 Titàn alyaj / tretman chalè / mikwostrikti / rezistans korozyon
Konpozisyon chimik TB5 Titàn alyaj (pousan)
![]()
Paramèt pwosesis tretman chalè nan alyaj Titàn TB5
echantiyon tès TB5 | Solisyon solid Tanperati / ˚ C | Solisyon solid Tan/h | Aje Tanperati / ˚ C | Aje Tan/h |
Yon echantiyon tès | 800 | 1 | 400 | 1 |
B echantiyon tès | 800 | 1 | 450 | 1 |
C echantiyon tès | 800 | 1 | 500 | 1 |
D echantiyon tès | 800 | 1 | 550 | 1 |
F echantiyon tès | 800 | 1 | - | - |
E echantiyon tès | 850 | 1 | - | - |
G echantiyon tès | 950 | 1 | - | - |
Modèl XRD nan alyaj TB5 Titàn apre tretman chalè

Vi ki pasyèlman elaji nan XRD

Foto metalografi TB5 Titàn alyaj apre tretman solisyon

Foto metalografi nan echantiyon solisyon solid 800 degre apre tretman aje

Done tès Tafel nan echantiyon ak diferan tanperati tretman chalè

Spèkt enpedans nan alyaj TB5 Titàn nan 3.5 pousan solisyon NaCl








